低溫真空探針臺的溫度變化范圍4.2K到475K，加低溫選件后，溫度可降低到1.5K，加入高溫選件，可提供的溫度變化范圍：20K-675K。系統需要使用液氦或液氮實現變溫，防輻射屏大大降低了黑體輻射，提高了制冷效率。冷頭上安裝兩個加熱器，減小了樣品的溫度梯度，加上防輻射屏上的加熱器，整個系統可以實現快速的變溫。
低溫真空探針臺最多具有6個可以進行微調整的探針臂，每個探針臂上的探針都可以進行3維方向上的定位。專用的探針根據尺寸和材料不同，分為多種類型，探針減少了熱質量，優化了和器件的電接觸性。每個探針都直接和冷頭進行導熱，這樣就減小了探針對樣品的熱傳遞。
● 系統可使用液氮或液氦制冷，基本系統溫度范圍：4.2 K to 475 K
● 加入溫度選件，溫度范圍可到1.5 K to 400 K 和 20 K to 675 K
● 樣品臺可進行面內±5°旋轉
● 測量DC到67GHz
● ***測試樣品尺寸51mm直徑
● 最多可使用6個探針臂
● 探針臂傳上安裝溫度感器進行溫度監測
● 可提供Load-lock選件
● 控溫穩定性：±50mK
● 探針臂3軸方向可調節，并可進行面內±5°旋轉
● 采用高真空選件，系統真空度可達到10-7 torr
● 電纜、屏蔽和Guard保護進一步減少了電噪聲和熱輻射損失
● 可提供不同的選件和附件來滿足特定的科研測試需要
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